高纯石墨介绍

 高纯石墨是用于制作半导体技能设备的各种元件，它是以一般的结构石墨在石墨化进程顶用活性气体净化而成的。已净化的石墨须在防止制品污染的条件下进行机械加工。这种石墨（净化后）的灰分不跨越1×10%，铁、铝、镁的含量不该跨越3×105%，铜、硼、锰的含量不该跨越1×10%。上面这些约束杂质含量都符合纯真级。在这些石墨里，硅钙的含量不大于3×10(质量%）。工业上还有纯度更高的结构石墨。用这种石墨制成的制品经过机械加工之后再进行弥补净化，以削减其外表沾染的几率。约束杂质——铁、铝、镁、硼、铜、锰的含量不许跨越1×10%，硅的含量不许跨越3×10-%，钛、镍、铬及其他元素的含量应少于1x10%。这些石墨的灰分在0~10*%。各种商标特纯石墨的物理力学性能。
    注：TM石墨的热处理温度为2700℃，其他各种商标石墨的热处理温度为2800~3000℃。有保护层的特纯高强石墨是由一般细结构石墨经过净化并在真空中脱气，然后用热解炭进行外表增密处理而成的。其制品（加热器、圆盘、石墨皿等)可用于以气体外延成长法制取硅薄膜。